| 认证 | ROHS |
|---|---|
| 包装 | 桶装 |
| 产地 | 广东 |
| 处理温度 | 15—20℃ |
| 供货地 | 广东 |
| 类别 | 光亮剂 |
| 品牌 | 华凯 |
| 型号 | WK-2081走位剂 WK-2081走亮剂 WK-2081开缸剂 |
WK-2081滚镀酸性镀铜工艺
一、特性：
1、高整平，走位性能佳，铜镀屋清晰，没有镀层雾气
2、无针孔，消耗平衡
3、主光剂消耗量低
4、可用于滚镀，并且操作稳定，不需要经常大处理镀液
二、滚镀的工艺参数
| 原料及操作条件 | 范围 | **值 |
| 硫酸铜 硫酸（浓） 氯离子 WK-2081 A填平剂 WK-2081 Mu开缸剂 温度 电压 搅拌 阳极 | 150--200/升 80-100克/升 70—120ppm 0.2—0.6毫升/升 5-10毫升/升 15—20℃ 5—10V 强烈而均匀的空气搅拌 含磷的铜板 | 170克/升 90克/升 80 ppm 0.4毫升/升 8毫升/升 17℃
|
三、光亮剂消耗与补充
WK-2081开缸剂：只在镀液开缸时及活性炭大处理后产生中镀液带出损失时使用。开缸剂不足时，会使镀层的高中电力密度区产生条纹状镀层；开缸剂过多时会使镀层有雾状，也可取代部分WK-2081B剂的用量。使镀液有更好的分散能力
WK-2081A剂：主要作用在低电流密度区有优良的光亮度填平性，按照镀层的光亮度与平整性及操作温度其消耗量各不相同（消耗量随温度升高而递增）。含量过低时，整个电流密度区的填平度会下降；含量过多时，低电流密度区发黑，没有填平度，与其它位置镀层有明显的分界介，但仍有光亮。
氯离子过多过少的氯离子都会影响镀层的光亮度与整平度，**范围在80-100 ppm，过少时会出现树枝状条纹；过多时影响低电流区光亮度与整平度。
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